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產(chǎn)品展示/ Product display

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大顆粒計數(shù)圖像粒度分析儀

產(chǎn)品簡介：
ZMV850大顆粒計數(shù)粒度圖像分析儀系統(tǒng)是采用圖像法測量顆粒粒度大小、形狀特征、顆粒表面顏色的顆粒分析系統(tǒng)。其工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接嬎銠C中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結(jié)合智能的背景分離及很強的顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)。

  • 產(chǎn)品型號：ZMV850
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時間：2026-04-07
  • 訪  問  量：88
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詳細介紹

產(chǎn)品特點：

ZMV850大顆粒計數(shù)粒度圖像分析儀具有大測量范圍及高分辨率，同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點。是目前能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型大顆粒粒度分析儀器。

技術(shù)參數(shù)：

測量范圍：100um-50000um

重復(fù)性誤差：<3%

等效粒徑：等面積圓、等周長圓、等效短徑、等效長徑、等效橢圓短軸、等效寬度、等效長度、等效正六邊形短軸、等效正六邊形長軸。

粒度統(tǒng)計：體積、面積、顆粒、數(shù)量統(tǒng)計

形狀參數(shù)：圓度、球形度、凸起度、實積度、延伸度、長徑比、長寬比、橢圓度

測量方式：干法

光學(xué)傳感器：CCD線性傳感器

圖像分辨率：20000 * 20000

光學(xué)平臺：220mm * 300mm

背景光源：反射光

工作環(huán)境：5～35℃（溫度）, ＜85%（相對濕度）

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